Könyv Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization: Volume 991 Gerfried ZwickerChristopher BorstLaertis EconomikosAra Philipossian

Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization: Volume 991

Nyelv: Angol
Kötés: Kemény kötésű
Elérhetőség: Utánnyomás
Megjelenés ismeretlen
11 897 Ft
Chemical mechanical planarization (CMP) has been a leading-edge technology in semiconductor processi...

Információk a könyvről

Nyelv
Angol
Kötés
Könyv - Kemény kötésű
Kiadva
2007
oldal
371
EAN
9781558999510
ISBN
1558999515
Enbook ID
02060445
Súly
641
Méretek
157 x 234 x 25

Teljes leírás

Chemical mechanical planarization (CMP) has been a leading-edge technology in semiconductor processing for the past 15

Érdekelheti

Endurance Trainingbook

Dieter Szymczak
3 935 Ft
5 452 Ft

Anna of Denmark

Jemma Field
37 508 Ft
10 072 Ft

Brutal Truth

LEE WINTER
7 714 Ft
5 990 Ft
3 250 Ft

Learning Online

George Veletsianos
13 221 Ft

Water Music: Piano Solo

Granville Bantock
7 144 Ft

Stormy Waters

Mandic Aida Mandic
7 378 Ft
8 964 Ft

Azok a vásárlók, akik ezt a könyvet megvásárolták, a következőket is megvásárolták

Blood Lad EXTREME 01

Hirofumi Yamada
3 324 Ft

Čepeľ tajomstiev

Tricia Levensellerová
4 740 Ft
13 759 Ft
3 512 Ft

Der Salzspahn

Bernd Stephan
7 392 Ft
16 632 Ft

Sinestesia

Victoria Lopez
1 356 Ft
4 896 Ft

Petite Mouette

Guillemaud
6 808 Ft
2 666 Ft

Gregorius

Hartmann von Aue
7 682 Ft
5 586 Ft
2 928 Ft

El doble de Picasso / Picasso's Double

J. Francisco Guerrero Lopez
9 171 Ft
3 632 Ft

Juegos con palabras

María Rosa López Llebot
11 300 Ft