Könyv Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen

Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Nyelv: Angol
Kötés: Kemény kötésű
Elérhetőség: Beszállítói készleten
Küldés 9-15 napon belül
80 097 Ft
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf...

Információk a könyvről

Nyelv
Angol
Kötés
Könyv - Kemény kötésű
Kiadva
2013
oldal
272
EAN
9781118062777
ISBN
1118062779
Enbook ID
04949772
Súly
582
Méretek
240 x 164 x 25

Teljes leírás

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

Érdekelheti

Azok a vásárlók, akik ezt a könyvet megvásárolták, a következőket is megvásárolták

Werbetexte/R

Regina Karl
9 469 Ft

Design de Superfície

Christie Meditsch
18 426 Ft

Zurcher Kantonalbank

Heinrich Eduard Nüscheler
13 418 Ft
10 078 Ft