Könyv Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials M. R. Oliver

Chemical-Mechanical Planarization of Semiconductor Materials

Szerző: M. R. Oliver
Nyelv: Angol
Kötés: Kemény kötésű
Elérhetőség: Beszállítói készleten
Küldés 10-13 napon belül
86 736 Ft
This volume is a comprehensive review of CMP (Chemical-Mechanical Planarization) technology, which i...

Információk a könyvről

Szerző
Nyelv
Angol
Kötés
Könyv - Kemény kötésű
Kiadva
2004
oldal
428
EAN
9783540431817
ISBN
3540431810
Enbook ID
01564079
Súly
1760
Méretek
155 x 235 x 28

Teljes leírás

This volume is a comprehensive review of CMP (Chemical-Mechanical Planarization) technology, which is now a major part of state-of-the-art semiconductor technology. There are detailed discussions of all aspects of the technology, for both dielectrics and metals. The state of polishing models and their relation to experimental results are covered. Polishing tools and consumables are also covered. The leading edge issues of damascene and new dielectrics as well as slurryless technology are discussed.

Érdekelheti

22 123 Ft

Multiply

Francis Chan
5 831 Ft
39 487 Ft
9 275 Ft
3 237 Ft

Azok a vásárlók, akik ezt a könyvet megvásárolták, a következőket is megvásárolták