Könyv Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Nyelv: Angol
Kötés: Kemény kötésű
Elérhetőség: Beszállítói készleten
Küldés 9-15 napon belül
92 309 Ft
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...

Információk a könyvről

Nyelv
Angol
Kötés
Könyv - Kemény kötésű
Kiadva
2023
oldal
496
EAN
9781032386706
Enbook ID
43909170
Súly
662
Méretek
156 x 234

Teljes leírás

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Érdekelheti

2 842 Ft

Burlington

Jean M. Martin
11 531 Ft
54 081 Ft

Action Research

Jean McNiff
14 328 Ft

Azok a vásárlók, akik ezt a könyvet megvásárolták, a következőket is megvásárolták

14 642 Ft
5 344 Ft

Schutz vor Krebs

Dr.med. Michael Spitzbart
1 677 Ft
2 717 Ft
15 140 Ft

Be Bop a Lu La

Carl Perkins
3 954 Ft
8 428 Ft
24 694 Ft

Inane

Isabel Navarro Cerdán
5 913 Ft

El eterno asombro

Pearl S. Buck
4 465 Ft