Könyv Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Nyelv: Angol
Kötés: Kemény kötésű
Elérhetőség: Beszállítói készleten
Küldés 10-16 napon belül
97 866 Ft
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...

Információk a könyvről

Nyelv
Angol
Kötés
Könyv - Kemény kötésű
Kiadva
2023
oldal
496
EAN
9781032386706
Enbook ID
43909170
Súly
662
Méretek
156 x 234

Teljes leírás

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Érdekelheti

9 454 Ft
5 455 Ft
4 949 Ft

Code Breakers: Beta

Colin F Barnes
5 962 Ft
6 239 Ft

The Noel Diary

Richard Paul Evans
6 834 Ft
11 145 Ft
2 894 Ft

Azok a vásárlók, akik ezt a könyvet megvásárolták, a következőket is megvásárolták

5 443 Ft
9 901 Ft
6 776 Ft
14 910 Ft
28 707 Ft

El eterno asombro

Pearl S. Buck
4 489 Ft
11 539 Ft
2 911 Ft

Mi Buen Perro

Katrina Streza
4 676 Ft

Inane

Isabel Navarro Cerdán
5 951 Ft
13 174 Ft
8 570 Ft

Be Bop a Lu La

Carl Perkins
2 561 Ft