Könyv Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Nyelv: Angol
Kötés: Puha kötésű
Elérhetőség: Beszállítói készleten
Küldés 9-15 napon belül
27 706 Ft
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit...

Információk a könyvről

Nyelv
Angol
Kötés
Könyv - Puha kötésű
Kiadva
2025
oldal
354
EAN
9781032386737
Enbook ID
48234675
Súly
700
Méretek
156 x 234

Teljes leírás

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Érdekelheti

84 576 Ft

Sound Studies Reader

Jonathan Sterne
29 997 Ft

Economics After the Crisis

Irene van Staveren
49 118 Ft

Report of the Attorney General

Michigan Attorney General's Dept
12 782 Ft

Curious Sofa

Edward Gorey
3 752 Ft
12 042 Ft
52 785 Ft
2 515 Ft
5 631 Ft
62 397 Ft
11 033 Ft

Stan Lee

Bob Batchelor
6 882 Ft

Sustainable Development Goals (SDGs)

Maria Aparecida F. de Souza Nogueira
23 089 Ft

Azok a vásárlók, akik ezt a könyvet megvásárolták, a következőket is megvásárolták

6 868 Ft
9 083 Ft
1 506 Ft
12 939 Ft

Verbum Dei Recitatum

Philipp Schulz-Mews
20 044 Ft

Michael der Finne

Mika Waltari
5 048 Ft

Mediavuelta

Eric Adrian Perez Gonzalez
10 419 Ft
16 592 Ft

Developmental Assignments

Cynthia D (Center for Creative Leadership) McCauley
9 298 Ft
1 735 Ft

Wrist-Ankle-Akupunktur

Laurent Richter
9 554 Ft

Alcools

Guillaume Apollinaire
2 403 Ft

Moje sylabki - w przedszkolu

Agnieszka Fabisiak-Majcher
5 855 Ft
8 446 Ft